歡迎光臨南京舜儀實驗設備有限公司網站！
誠信促進發展，實力鑄就品牌
服務熱線：
13910133809
13910133809
產品中心
product center
JS-1600小型離子濺射儀
JS-600M小型磁控濺射儀
金靶濺射靶材
LX-S10-BLP1KW小功率冷水機
LX-S12-BHP1.2KW冷卻循環水機
LX-S65-BHP6.5KW冷卻循環水機
LX-S45-BHP4.5KW冷卻循環水機
LX-S20-BHP2KW冷卻循環水機
關于我們
about us技術文章
Technical articles2025
11-20光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設備，廣泛應用于光電子、通訊、光學、半導體等領域。離子濺射技術利用高能離子轟擊靶材，通過濺射效應使靶材...2025
10-23薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜制備的實驗室設備。磁控濺射技術是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...2025
9-17薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...2025
8-20低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統濺射...2025
7-16桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到沖擊力從表面彈出，產生濺射效應。濺射出的原子或分子會...2025
6-17冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設備，廣泛應用于材料科學、半導體工業、光電器件制造等領域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優點，并能夠在不加熱基材...2025
5-21桌面型小型離子濺射儀的設計特點詳細介紹
桌面型小型離子濺射儀是用于薄膜沉積、表面處理以及材料改性的一種先進工具，廣泛應用于半導體制造、光學涂層、表面分析等領域。離子濺射技術通過利用離子束轟擊靶材，使靶...2024
12-16貴金屬靶材蒸發料加工蒸發薄膜的沉積與控制
貴金屬靶材蒸發料加工技術作為一種重要的薄膜制備技術，在多個行業中得到了廣泛應用。隨著技術的不斷發展，蒸發加工的精度和效率不斷提高，新的蒸發方法和設備層出不窮，貴...推薦產品
Recommended products
小型離子濺射儀
小型磁控濺射儀
濺射靶材
1KW小功率冷水機
6.5KW冷卻循環水機
4.5KW冷卻循環水機
2KW冷卻循環水機
600W高精度冷卻循環水機(Chiller)
貴金屬靶材蒸發料加工
真空設備冷卻循環水機
一體式冷卻循環水機
蘇公網安備 32011202001508號
在線交流
咨詢電話